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芯片級FT-IR光譜儀開啟智能應用新時代

作者: 2018年05月15日 來源:全球化工設備網(wǎng) 瀏覽量:
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近紅外光譜已經(jīng)廣泛應用于科研、工業(yè)、農業(yè)、制藥以及食品安全等領域的定性及定量物質分析。然而近紅外光譜儀一直以來都因為體積大、價格高等問題限制了其在消費級產品中的應用。如今隨著MEMS和ASIC技術的發(fā)展,Si-W

近紅外光譜已經(jīng)廣泛應用于科研、工業(yè)、農業(yè)、制藥以及食品安全等領域的定性及定量物質分析。然而近紅外光譜儀一直以來都因為體積大、價格高等問題限制了其在消費級產品中的應用。如今隨著MEMS和ASIC技術的發(fā)展,Si-Ware公司推出了世界上最小的芯片級傅里葉紅外光譜儀NeoSpectra Micro。這一突破不僅將紅外光譜儀的體積縮小到了指甲蓋大小的級別,也將產品價格降到了消費級產品可以接受的區(qū)間。NeoSpectra Micro的創(chuàng)新設計也必將在智能家居、智慧農業(yè)、可穿戴設備、健康監(jiān)測等領域引領革命性的發(fā)展。

 

那什么是傅里葉變換紅外光譜呢?

近紅外是介于可見光和中紅外之間的電磁輻射波,波長范圍0.76~2.5μm。每種物質分子由于其組成和結構的不同決定了其對近紅外光都有獨一無二的響應,即這一分子的紅外吸收光譜。傅里葉變換紅外光譜簡寫為FT-IR對干涉后的紅外光進行傅里葉變換來測定紅外光譜的光譜分析方法。傅立葉變換紅光譜具有高檢測靈敏度、高測量精度、高分辨率、測量速度快、散光低以及波段寬等特點。

 

MEMS又是什么黑科技?

微電子機械系統(tǒng)(MEMS)是基于芯片的電子機械元件。依托于半導體微細加工技術發(fā)展而來,并融合了光刻、腐蝕、薄膜、LIGA、硅微加工、非硅微加工和精密機械加工等先進的制作工藝。在過去的幾十年中,MEMS芯片為幾個行業(yè)帶來了革命性的變化,現(xiàn)在,MEMS芯片可以在眾多電子和光學設備中找到。

 

MEMS

 

FT-IR光譜儀是如何工作的?

傅立葉變換紅外光譜儀的核心是一個雙光束光學干涉儀名叫邁克耳孫干涉儀。 分束器將入射光束分成兩路:一束經(jīng)透射到達動鏡,另一束經(jīng)反射到達定鏡。兩束光分別經(jīng)定鏡和動鏡反射再回到分束器,動鏡以一恒定速度作直線運動,因而經(jīng)分束器分束后的兩束光形成光程差,產生干涉。干涉光在分束器會合后通過樣品池,通過樣品后含有樣品信息的干涉光到打探測器,然后通過傅里葉變換對信號進行處理,最終得到紅外吸收光譜圖。

 

FT-IR + MEMS = NeoSpectra Micro

在NeoSpectra Micro 微型傅里葉紅外光譜儀中,所有光學和機械組件都集成在單個MEMS芯片上,從而實現(xiàn)芯片級FT-IR功能。 單片集成通過使用Si-Ware公司專有的硅集成微光系統(tǒng)技術(SiMOST)平臺來實現(xiàn)。

 

NeoSpectro Micro

 

NeoSpectra Micro產品性能

波長范圍

PSD*>max PSD/10

1350-2500

nm

分辨率

波長1550nm,F(xiàn)WHM標準

16

nm

典型信噪比(rms)

2s 信號采集時間,波長2050nm

2000:01:00

-

溫度

運行

 -5 ~ 40

波長精度

波長1400nm,溫度<40℃

±1.5

nm

波長重復性

波長1400nm,吸光度水平 = 0.5 A.U.

±0.1

nm

芯片級FT-IR光譜儀NeoSpectra Micro的應用領域

 

 

對于新產品開發(fā)我們可以提供的支持

為了支持用于更快速更便捷的基于NeoSpectra Micro 開發(fā)智能產品,我們特別推出了即插即用型的NeoSpectra Micro開發(fā)套件。

 

NeoSpectra Micro Development Kit

 

*在一塊PCB開發(fā)板上集成光學核心模塊

*光學核心模塊上面集成照明光源和自由光采集透鏡

*SPI通信接口及控制輸出

*可通過SPI直接與樹莓派微型電腦連接

*免費提供SpectroMOST軟件及SDK

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